- 硅酸盐的化学性质
- 共939题
单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500°C),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易水解;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式 。
(2)装置A中g管的作用是 ;装置C中的试剂是 ;装置E中的h瓶需要冷却理由是 。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是 (填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,是铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:
①滴定前是否要滴加指示剂? (填“是”或“否”),请说明理由 。
②某同学称取5.000g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,试样溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是 。
正确答案
(1)MnO2 + 4H+ + 2Cl-Mn2+ + Cl2↑ + 2H2O
(2)平衡压强 浓硫酸 使SiCl4冷凝
(3)Al、P、Cl
(4)①否;KMnO4溶液自身可作指示剂;
②4.480%
制备四氯化硅的原料为Cl2和Si。A装置为Cl2的制备装置,B、C装置为除杂装置。先用B除去HCl,再用C(浓H2SO4)除去H2O蒸气。Cl2通入粗硅中反应,用冷水将产生SiCl4冷凝即可。(1)制取氯气用浓盐酸和MnO2在加热条件下反应。(2)g管是将分液漏斗与烧瓶相连,则它们中的压强是相待的,这样便于盐酸能顺利滴下。SiCl4的沸点很低,只有57.7℃,而反应的温度达几百度,故需要冷凝收集。(3)从物质的物理性质表可发现,AlCl3,FeCl3和PCl5均易升华,故还应还有Al、P、Cl元素。(4)由于高锰酸钾本身是紫红色的,与Fe2+反应时,可以褪色,故而可以作为指示剂。根据方程式可以找出关系,5Fe2+~MnO4- ,n(Fe)= 10-2×20×10-3×5×100/25 =4×10-3mol。W (Fe)= 4×10-3×56/5 ×100% =4.48%。
A元素的一种单质是一种重要的半导体材料,含A元素的一种化合物C可用于制造高性能的现代通讯材料——光导纤维,C与烧碱反应生成含A元素的化合物D。
(1)在元素周期表中,A位于第________族,与A同族但相对原子质量比A小的元素B的原子结构示意图为________,A与B在原子的电子层结构上的相同点是_______________________。
(2)易与C发生化学反应的酸是______ (填名称),反应的化学方程式是_______。
(3)将C与纯碱混合高温熔融时也发生化学反应生成D,同时还生成B的最高价氧化物E;将全部的E与全部的D在足量的水中混合后,又发生化学反应生成含A的化合物F。
①写出生成D和F的化学方程式:______________________________________,___________________________________________________________________。
②要将NaOH高温熔化,下列坩埚中不可选用的是_________________________。
A.普通玻璃坩埚 B.石英玻璃坩埚
C.氧化铝坩埚 D.铁坩埚
(4)100 g C与石灰石的混合物充分反应后生成的气体在标准状况下的体积为11.2 L,100 g混合物中石灰石的质量分数是________。
正确答案
(1)ⅣA 最外层均有4个电子,最内层均有2个电子
(2)氢氟酸 SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O
(3)①SiO2+Na2CO3Na2SiO3+CO2↑
Na2SiO3+CO2+H2O=Na2CO3+H2SiO3↓
②A、B、C
(4)50%
(1)A元素单质可作半导体材料,含A元素的某化合物是制造光导纤维的原料,可知A为硅元素,比硅相对原子质量小的同族元素为碳。
(2)C为SiO2,能与SiO2反应的酸只有氢氟酸。
(3)SiO2与NaOH反应生成Na2SiO3和H2O,故含SiO2的材料(普通玻璃、石英玻璃)以及Al2O3等都能与NaOH在高温下反应,故不能用以上材质的坩埚熔化NaOH。
(4)根据反应SiO2+CaCO3CaSiO3+CO2↑,
CaCO3CaO+CO2↑可知,无论SiO2和CaCO3是否恰好完全反应,均有关系式CaCO3~CO2存在,故n(CaCO3)=n(CO2)="0.5" mol,m(CaCO3)="50" g。
硅酸钠是一种重要的无机功能材料,某研究性学习小组设计的利用海边的石英砂(含氯化钠、氧化铁等杂质)制备硅酸钠的流程如下:
(1)石英砂加水洗涤的目的是 。
研磨后加入NaOH溶液溶解的离子方程式是 。
(2)实验室进行蒸发操作要用到的仪器有铁架台(含铁圈)、 和 。
(3)残渣Ⅰ的成分是 (填化学式)。将残渣Ⅰ溶于盐酸,再加入NaOH溶液得到沉淀,将该沉淀加入到NaClO和NaOH混合溶液中可制得一种优质净水剂,完成反应的离子方程式: + ClO-+ OH- + Cl-+ H2O
(4)按上述流程制得的硅酸钠晶体可表示为Na2O·nSiO2,若石英砂的质量为10.0 g,其中含SiO2的质量分数为90%,最终得到硅酸钠晶体15.2 g,则n= 。
正确答案
(1)除去氯化钠等可溶性杂质 SiO2+2OH-Si
+H2O
(2)玻璃棒 蒸发皿
(3)Fe2O3 2 Fe(OH)3 3 4 2 Fe 3 5
(4)1.5
(1)石英砂中含有可溶性杂质氯化钠,加水溶解可除去,氢氧化钠和二氧化硅反应生成硅酸钠。
(2)蒸发溶液要选择蒸发皿,为防止受热不均液体溅出,用玻璃棒搅拌。
(3)Fe2O3不和氢氧化钠反应,故残渣为Fe2O3,根据电荷守恒配平。
(4)10 g石英砂中SiO2占了90%,则SiO2的物质的量为="0.15" mol,硅酸钠晶体的质量为15.2 g,则氧化钠的质量为15.2 g-9 g="6.2" g,故氧化钠的物质的量为0.1 mol,n(Na2O)∶n(SiO2)="0.1" mol∶0.15 mol=1∶1.5,故n=1.5。
如何用所提供的试剂和方法除去各粉末状混合物中的杂质(括号内为杂质)。将所选答案的编号填入在表内相应的空格内(如果不需要外加试剂,则对应答案栏可空着)。
1.可供选择的试剂:
Ⅰ.可选用的操作:①水洗 ②加热 ③高温灼烧 ④过滤 ⑤结晶
正确答案
(1)B,④ (2)D,④,⑤ (3)A,④ (4)A,④ (5)③ (6)②
可根据二氧化硅是不溶于水的酸性氧化物;它可跟强碱反应,不跟酸(氢氟酸除外)反应;它受热不分解等性质。而三氧化二铁,碳酸钙跟盐酸反应;硅酸、氯化铵能受热分解。通过一定操作,除去杂质。除杂过程中所发生的化学方程式如下:
(1)SiO2+2NaOH==Na2SiO3+H2O
(3)Fe2O3+6HCl==2FeCl3+3H2O
(4)CaCO3+2HCl==CaCl2+CO2↑+H2O
(5)H2SiO3SiO2+H2O
(6)NH4ClNH3↑+HCl↑
氮化硅(氮显-3价,硅显+4价)是一种高温陶瓷材料,它的硬度大、熔点高、化学性质稳定,工业上曾普遍采用高纯硅与纯氮在1300 ℃时反应获得。
(1)写出N的原子结构示意图________和氮化硅的化学式________。
(2)氮化硅陶瓷抗腐蚀能力强,除氢氟酸外,它不与其他无机酸反应。试推测该陶瓷被氢氟酸腐蚀的化学方程式____________________________。
(3)现用四氯化硅和氮气在氢气气氛保护下,加强热发生反应,可得较高纯度的氮化硅,反应的化学方程式为_____________________。
正确答案
(1);Si3N4(2)Si3N4 + 16HF=3SiF4↑+ 4NH4F (3) 3SiCl4 + 2N2 + 6H2
Si3N4 + 12HCl
试题分析:(1)氮元素是7号元素,原子结构示意图是。氮化硅中氮显-3价,硅显+4价,所以其化学式是Si3N4。
(2)根据原子守恒可知,该反应的化学方程式应该是Si3N4 + 16HF=3SiF4↑+ 4NH4F。
(3)根据原子守恒可知,该反应的化学方程式应该是3SiCl4 + 2N2 + 6H2Si3N4 + 12HCl。
点评:该题是基础性试题的考查主要是对学生基础知识的巩固和训练,有利于培养学生的逻辑推理能力和规范答题能力,提高学生的学习效率。
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